发明名称 METHOD FOR PHOTOCHEMICALLY STRUCTURING SURFACES AND ARTICLES STRUCTURED BY SAID METHOD
摘要 <p>Die Erfindung betrifft Verfahren zur Behandlung von Oberflächen sowie mit solchen Verfahren hersgestellte Gegenstände. Weiterhin betrifft sie die Verwendung von Verbindungen als photochemisch spaltbare Reagenzien. Zur Texturierung von Oberflächen oder dem Erzeugen von Nanometerstrukturen auf Oberflächen werden verschiedene Techniken eingesetzt. Mit Hilfe des erfindungsgemäßen Verfahrens können definierte Oberflächenstrukturen und Profile ohne hohen techniscen Aufwand erzeugt werden. Durch den Einsatz photochemisch spaltbarer Verbindungen können definiert Oberflächen mit hydrophoben und hydrophilen Bereichen bzw. ein Oberflächenprofil mit Erhebungen und Vertiefungen erzeugt werden. Das Oberflächenprofil bzw. die Oberflächenbeschaffenheit wird in Abhängigkeit von der verwendeten Maske, die UV-undurchlässig ist und nur an definierten Aussparungen UV Licht durchläßt, erzeugt.</p>
申请公布号 WO2002001297(A2) 申请公布日期 2002.01.03
申请号 DE2001002315 申请日期 2001.06.21
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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