| 摘要 |
3D 메모리 디바이스들에서 사용하기 위한 필름 층들의 스택을 형성하기 위한 방법이 제공된다. 방법은, 증착 반응기의 프로세싱 챔버에 기판을 제공하는 것으로 시작된다. 그런 다음, 유전체 층을 형성하기에 적합한 하나 또는 그 초과의 프로세스 가스들이 증착 반응기의 프로세싱 챔버 내로 공급되어, 기판 상에 유전체 층을 형성한다. 그런 다음, 금속 층(metallic layer)을 형성하기에 적합한 하나 또는 그 초과의 프로세스 가스들이 증착 반응기의 프로세싱 챔버 내로 공급되어, 유전체 층 상에 금속 층을 형성한다. 그런 다음, 금속 질화물 접착 층(metallic nitride adhesion layer)을 형성하기에 적합한 하나 또는 그 초과의 프로세스 가스들이 증착 반응기의 프로세싱 챔버 내로 공급되어, 금속 층 상에 금속 질화물 접착 층을 형성한다. 그런 다음, 시퀀스는 요구되는 개수의 층들을 형성하기 위해 반복된다. |
