发明名称 |
PATTERN INSPECTING METHOD, DEVICE THEREFOR AND PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR WAFER |
摘要 |
|
申请公布号 |
JPH10340347(A) |
申请公布日期 |
1998.12.22 |
申请号 |
JP19970150652 |
申请日期 |
1997.06.09 |
申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
SHISHIDO CHIE;WATANABE MASAHIRO;HIROI TAKASHI;TANAKA MAKI;KUNI TOMOHIRO;SHINADA HIROYUKI;NOZOE MARI;SUGIMOTO ARITOSHI |
分类号 |
H01L21/66;G06T1/00;G06T7/00;(IPC1-7):G06T7/00 |
主分类号 |
H01L21/66 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|