| 发明名称 |
REACTANT GAS INJECTION FOR IC PROCESSING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR0160287(B1) |
申请公布日期 |
1999.02.01 |
| 申请号 |
KR19900007291 |
申请日期 |
1990.05.19 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS INC. |
发明人 |
CARLSON, DAVID K.;LINDSTRON, PAUL R. |
| 分类号 |
H01L21/205;C23C16/44;C23C16/455;(IPC1-7):H01L21/20 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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