摘要 |
<P>L'invention concerne un appareil d'attaque.Elle se rapporte à un appareil qui comprend une cloche (16) délimitant une cavité ayant une ouverture à sa partie inférieure, une table (11) de chargement de tranche (21) placée dans la cloche (16) ou sous l'ouverture de la cloche (16), un instrument (17) de concentration de gaz en forme de dôme placé entre la table (11) de chargement de tranche et la cloche (16) et ayant une ouverture (17a) à sa partie supérieure, et un orifice (12) d'introduction de gaz formé dans une zone latérale de l'instrument (17) de concentration de gaz et entre cet instrument (17) de concentration de gaz et la cloche (16).Application à l'attaque de tranches de matériaux semi-conducteurs et piézoélectriques.</P>
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