发明名称 CLEANING PROCESS FOR WAFER PROCESSING SOLUTION
摘要
申请公布号 JPH02292825(A) 申请公布日期 1990.12.04
申请号 JP19890113811 申请日期 1989.05.08
申请人 MATSUSHITA ELECTRON CORP 发明人 SHIRAISHI MASATOSHI
分类号 C02F1/28;H01L21/304 主分类号 C02F1/28
代理机构 代理人
主权项
地址