发明名称 降低电阻电介质陶瓷压制物及层压陶瓷电容器
摘要 本发明提出一种电介质陶瓷压制物,其可降低高频与高电压或是大电流条件下的损失与生热,其显示AC或DC负载之稳定绝缘电阻,而且可以形成使用镍等作为内部电极材料的层压陶瓷电容器。该降低电阻电介质陶瓷压制物系由一种辅助烧结剂与一种包含钛酸钡作为主要成份之固体溶液所形成,该固体溶液系由公式ABO3+aR+bM所表示,其中R系一种包含诸如La元素的化合物,而M系一种包含诸如 Mn元素之化合物。此外,1.000<A/B≦1.035,0.005≦a≦0.12,而且0.005≦b≦0.12。此外,在该陶瓷中,在-25℃以上之温度范围中以x射线绕射所制得的晶轴比c/a符合1.000≦c/a≦1.003,而且在2 Vrms/mm以下电场以及1kHz频率之下测得的相对介电常数温度依存度当中,最大值尖峰存在低于-25℃温度处。
申请公布号 TW493188 申请公布日期 2002.07.01
申请号 TW090115599 申请日期 2001.06.27
申请人 村田制作所股份有限公司 发明人 水埜嗣伸;三木 寿;佐野 晴信
分类号 H01G4/30 主分类号 H01G4/30
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种降低电阻电介质陶瓷压制物,包括:一种固体溶液,其包括钛酸钡作为主要成份以及一种辅助烧结剂,其中在-25℃以上之温度范围中以x射线绕射所制得的晶轴比c/a符合1.000≦c/a≦1.003,而且在2Vrms/mm以下电强度以及1 kHz之AC频率下测得的相对介电常数温度依存度当中,最大値尖峰存在低于-25℃温度处,其中,该主要成份系以下式表示ABO3+aR+bM其中,ABO3系一种钛酸钡基钙钛矿化合物,其具有A-位置元素与B-位置元素,而且1.000<A/B≦1.035,R系一种包含选自由La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb与Lu组成之群中至少一种元素的化合物,M系一种包含选自由Mn、Ni、Mg、Fe、Al、Cr与Zn组成之群中至少一种元素的化合物,而且a与b系莫耳数,而且0.005≦a≦0.12而且0.005≦b≦0.12。2.根据申请专利范围第1项之降低电阻电介质陶瓷压制物,其中相对于100重量份数该主要成份,该辅助烧结剂约为0.2至4重量份数。3.根据申请专利范围第1项之降低电阻电介质陶瓷压制物,其中该主要成份包括X(Zr,Hf)O3,其中X系选自由Ba、Sr与Ca组成之群当中至少一种元素。4.根据申请专利范围第1项之降低电阻电介质陶瓷压制物,其中相对于1莫耳该主要成份中之ABO3,X(Zr,Hf)O3之数量大于零,且最高达约0.20莫耳。5.根据申请专利范围第1项之降低电阻电介质陶瓷压制物,其中该主要成份另外包括一种化合物D,其包含由V、Nb、Ta、Mo、W、Y、Sc、P、Al与Fe组成之群中至少一种元素。6.根据申请专利范围第5项之降低电阻电介质陶瓷压制物,其中相对于1莫耳该主要成份中之ABO3,D之数量大于零,而且最高达约0.02莫耳。7.根据申请专利范围第5项之降低电阻电介质陶瓷压制物,其中该主要成份包括X(Zr,Hf)O3,其中X系选自由Ba、Sr与Ca组成之群当中至少一种元素。8.根据申请专利范围第3项之降低电阻电介质陶瓷压制物,其中相对于1莫耳该主要成份中之ABO3,X(Zr,Hf)O3之数量大于零,且最高达约0.20莫耳。9.根据申请专利范围第8项之降低电阻电介质陶瓷压制物,其中ABO3系一种钛酸钡基钙钛矿化合物,其由化学式{(Ba1-x-ySrxCay)O}mTiO2表示,其中0≦x+y≦0.20,且1.000<m≦1.035,该辅助烧结剂系选自一种含硼化合物、一种含矽化合物以及一种含硼与矽化合物之群组中,以及相对于100重量份数该钛酸钡基钙钛矿化合物,另外包括正数量最高达约0.5重量份数之化合物,其包含选自S、Na与K中至少一种元素,而且包括正数量最高达约5重量份数之含Cl化合物。10.根据申请专利范围第1项之降低电阻电介质陶瓷压制物,其中ABO3系一种钛酸钡基钙钛矿化合物,其由化学式{(Ba1-x-ySrxCay)O}mTiO2表示,其中0≦x+y≦0.20,且1.000<m≦1.035,进一步包括相对于100重量份数该钛酸钡基钙钛矿化合物,另外包括正数量最高达约0.5重量份数之化合物,其包含选自S、Na与K中至少一种元素,而且包括正数量最高达约5重量份数之含Cl化合物。11.根据申请专利范围第1项之降低电阻电介质陶瓷压制物,其中该辅助烧结剂系选自一种含硼化合物、一种含矽化合物以及一种含硼与矽化合物之群组中。12.根据申请专利范围第11项之降低电阻电介质陶瓷压制物,其中该含矽化合物系氧化矽。13.一种层压陶瓷电容器,包括:数层电介质陶瓷层;数个内部电极,其各夹于电介质陶瓷层至少一部分之间;以及一对外部电极,其与该内部电极电连接,其中该电介质陶瓷层包括根据申请专利范围第9项之降低电阻电介质陶瓷压制物。14.根据申请专利范围第13项之层压陶瓷电容器,其中该内部电极包括镍、一种镍合金、铜或一种铜合金。15.根据申请专利范围第14项之层压陶瓷电容器,其中各个外部电极包括一层第一层,其包括一种粉末状导电金属,而且视需要包括玻璃料、结晶玻璃或陶瓷;以及一层第二层,其位于该第一层之上,而且是一层镀层。16.一种层压陶瓷电容器,包括:数层电介质陶瓷层;数个内部电极,其各夹于电介质陶瓷层至少一部分之间;以及一对外部电极,其与该内部电极电连接,其中该电介质陶瓷层包括根据申请专利范围第7项之降低电阻电介质陶瓷压制物。17.根据申请专利范围第16项之层压陶瓷电容器,其中该内部电极包括镍、一种镍合金、铜或一种铜合金。18.根据申请专利范围第17项之层压陶瓷电容器,其中各个外部电极包括一层第一层,其包括一种粉末状导电金属,而且视需要包括玻璃料、结晶玻璃或陶瓷;以及一层第二层,其位于该第一层之上,而且是一层镀层。19.一种层压陶瓷电容器,包括:数层电介质陶瓷层;数个内部电极,其各夹于电介质陶瓷层至少一部分之间;以及一对外部电极,其与该内部电极电连接,其中该电介质陶瓷层包括根据申请专利范围第1项之降低电阻电介质陶瓷压制物。20.根据申请专利范围第19项之层压陶瓷电容器,其中该内部电极包括镍、一种镍合金、铜或一种铜合金。21.根据申请专利范围第21项之层压陶瓷电容器,其中各个外部电极包括一层第一层,其包括一种粉末状导电金属,而且视需要包括玻璃料、结晶玻璃或陶瓷;以及一层第二层,其位于该第一层之上,而且是一层镀层。图式简单说明:图1系显示本发明一具体实施例层压陶瓷电容器的横剖面图;而图2系显示图1所示之层压陶瓷电容器的陶瓷层压制件之分解透视图。
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