| 摘要 |
본 발명은 탄탈 및 전도성 금속 (탄탈 제외)을 포함하는 기판의 화학 기계적 연마 방법을 제공한다. 상기 방법은 (a) 기판에 전도성 금속 선택성 연마 조성물 및 금속 산화물 연마제를 도포하는 단계, (b) 탄탈에 비해 전도성 금속의 적어도 일부를 기판으로부터 선택적으로 제거하는 단계, (c) 기판에 탄탈 선택성 연마 조성물 및 금속 산화물 연마제를 도포하는 단계, 및 (d) 전도성 금속에 비해 탄탈의 적어도 일부를 기판으로부터 제거하는 단계를 포함한다. 한 실시태양에서, 전도성 금속 선택성 연마 조성물은 임의의 연마 조성물이며, 탄탈 선택성 연마 조성물은 과황산염 화합물, 및 전도성 금속을 위한 패시베이션 막 형성제를 포함한다. 또다른 실시태양에서는, 전도성 금속 선택성 연마 조성물은 과황산염 화합물, 및 임의로 전도성 금속을 위한 패시베이션 막 형성제를 포함하고, 상기 기재한 바와 같이 전도성 금속 선택성 연마 조성물 또는 연마 공정을 조정하여 전도성 금속 선택성 연마 조성물이 탄탈 선택성 연마 조성물이 되도록 한다. |
