发明名称 |
六氟化硫泄漏点的定位方法及其定位系统 |
摘要 |
一种六氟化硫泄漏点的定位方法及其定位系统,所述方法包括如下步骤:步骤一:采用六氟化硫吸收谱所对应波长范围的第一光源扫描被测设备的测试区域,获得第一图像;步骤二:采用不同于第一光源对应波长范围的第二光源扫描该测试区域,获得第二图像;步骤三:比较第一图像和第二图像的对应位置是否存在阴影暗区变化,若不存在变化,则判断该测试区域无气体泄漏;若第二图像中对应于第一图像的阴影暗区位置变亮,则判断有气体泄漏。一种六氟化硫泄漏点定位系统,包括:光源发生装置,图像采集装置。本发明可以准确地对六氟化硫气体泄漏点进行定位,避免了对六氟化硫泄漏点的误判。 |
申请公布号 |
CN101387568A |
申请公布日期 |
2009.03.18 |
申请号 |
CN200710045790.5 |
申请日期 |
2007.09.11 |
申请人 |
上海电缆研究所;上海赛克力光电缆有限责任公司 |
发明人 |
江斌;依晓春;涂建坤;王建财;沈奶连;尹莹 |
分类号 |
G01M3/00(2006.01)I;G01M3/38(2006.01)I |
主分类号 |
G01M3/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海光华专利事务所 |
代理人 |
余明伟 |
主权项 |
1. 一种六氟化硫泄漏点的定位方法,其特征在于包括如下步骤:步骤一:采用六氟化硫吸收谱所对应波长范围的第一光源扫描被测设备的测试区域,获得第一图像;步骤二:采用不同于第一光源对应波长范围的第二光源扫描该测试区域,获得第二图像;步骤三:比较第一图像和第二图像的对应位置是否存在阴影暗区变化,若不存在变化,则判断该测试区域无气体泄漏;若第二图像中对应于第一图像的阴影暗区位置变亮,则判断有气体泄漏。 |
地址 |
200093上海市杨浦区军工路1000号 |