| 发明名称 |
ADJUSTING METHOD OF CHARGED BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0750238(A) |
申请公布日期 |
1995.02.21 |
| 申请号 |
JP19930195708 |
申请日期 |
1993.08.06 |
| 申请人 |
TOSHIBA CORP |
发明人 |
YASUSE HIROTO;TAMAMUSHI SHUICHI;NISHIMURA EIJI;OGAWA YOJI |
| 分类号 |
H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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