一种影像直接写入在光阻上期间延长该光阻稳定性之方法

摘要

于光阻制造中，通常藉由一保护但具传导性材料之一薄涂层(表涂层)以过度涂布该光阻之方式而消除、或至少充分地减少一化学放大型光阻的环境敏感度。为了改良一光罩图案于长时间内(一般为20小时)可直接写入的稳定性，该保护表涂层材料之pH值会因其他制程的变因，尽可能调整为中性。例如，一表涂层之pH值调整后若介于5至8，对稳定性将特别有帮助。于直接写入的期间，当该保护表涂层之pH值经调整后，其稳定性不仅在化学放大型光阻上变得更好，而且一涂有光阻基材之表面以调整过pH值的表涂层覆盖后，将可于成像前存放较长时间而无负面影响。