部分区(层)或全部玻化、SiO2成形体之制造方法及其用途

摘要

一种制造部分区(层)或全部玻化、SiO2成形体之方法，在该方法中，一无定形、多孔性SiO2预形体系藉助于辐射能之非接触式加热而加以烧结或玻化，且在此步骤过程中可免除SiO2成形体受到外来原子之污染，其特征为所用辐射能系一雷射束。