半导体装置之制造方法

摘要

本发明说明了一种半导体装置的制造方法，系藉由使用本发明的反应气体当作活性物种将薄膜形成于半导体基板上，其中该薄膜系藉由将薄膜形成程序再分割成多个阶段而形成的，并在每一个阶段内改变各活性物种的气体压力或气体流动速率。