| 主权项 |
1.一种上胶机之装置改良,系一机体,配设有胶料筒、压力调整单元、连接气压源之加压管、相通之输出管回授管及终端输出管、封盖、压定杆、锁定勾、脚踏开关;其主要特征在于:其胶料筒中设有对称筒孔径、且可取出之框架,框架中并设有袋体,袋体供放置胶料,藉由上述之框架、袋体,得使胶料不接触机体胶料筒,于需清除胶料时,可直接取出框架、袋体,处理袋体及其内之胶料,达到几乎不必清洗胶料筒内壁、胶料不沾渍残留于胶料筒之功效者。2.如申请专利范围第1项所述上胶机之装置改良;其中,该框架之上端,可设有凸出之尖锥端,尖锥端恰可供插置袋体之口缘,使袋体不会脱离框架之效果者。3.如申请专利范围第1项所述上胶机之装置改良;其中,该机体之终端输出管末端,设有具通孔、刷毛之刷杆,终端输出管之输出口插合于刷杆之通孔,而得使所输出之胶料分布于刷毛,另,该机体之一侧设有置放杯,得供置放刷杆刷毛及终端输出管之末端,使得沾有胶料之刷毛不会污染周遭环境之效果者。4.如申请专利范围第1项所述上胶机之装置改良;其中,该袋体,可采用塑胶袋、防湿纸袋及可供容置胶料之容器者。5.如申请专利范围第1项所述上胶机之装置改良;其中,该承放胶料之袋体,亦可采用桶体者。图式简单说明:图一,系习知构造剖视图图二,系本创作构造剖视及(a)立体分解图图三,系本创作承置胶料之另一实施例(A)立体分解(B)组合立体图 |
