一种二阶非线性光学晶体材料及其合成方法和用途

摘要

本发明公开了一种二阶非线性光学晶体材料，其分子式为KLiBeF₄，晶体空间群为P63。本发明还提供了上述二阶非线性光学晶体材料的制备方法，将氢氧化锂、氢氧化钾、氟化铍和氟氢酸铵置入反应器中，加入蒸馏水，搅拌下加入氢氟酸，调节pH值至5－7；密封，加热到140～160摄氏度，并保持恒温20小时以上；降至室温，过滤，得到无色透明的晶体；所得晶体用蒸馏水洗涤，真空干燥，得到二阶非线性光学晶体。本发明二阶非线性光学晶体材料在深紫外、可见光区和红外光区有很大的透光窗口，有较大的二阶非线性光学系数，具有优良的热稳定性；合成方法具有操作简单，可以直接获得单晶等优点。

主权项

1.一种二阶非线性光学晶体材料，其分子式为KLiBeF4，晶体空间群为P63。