| 发明名称 | 基板处理系统 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种对多个基板实施处理的基板处理系统，其包括：收纳多个基板并对其实施规定的处理的圆环状的处理腔室；载置用于收纳多个基板的盒的盒载置部；和在该处理腔室与该盒载置部之间搬送基板的基板搬送机构，在该处理腔室内，俯视时同心圆状地配置有多个基板。 | ||
| 申请公布号 | CN106165082A | 申请公布日期 | 2016.11.23 |
| 申请号 | CN201580017535.2 | 申请日期 | 2015.02.27 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 藤野丰 |
| 分类号 | H01L21/677(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;H01L21/31(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/677(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 一种对多个基板实施处理的基板处理系统，其特征在于，包括：收纳多个基板并对其实施规定的处理的圆环状的处理腔室；载置用于收纳多个基板的盒的盒载置部；和在所述处理腔室与所述盒载置部之间搬送基板的基板搬送机构，在所述处理腔室内，俯视时同心圆状地配置有所述多个基板。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||