用于电浆蚀刻反应器之阴极承载座

摘要

本发明之各种实施例一般系关于一电浆蚀刻反应器。于一实施例中，该蚀刻反应器包括一处理室、一位于该处理式之座台、一设于该处理室内座台上方之气体分配板、一围绕该座台之环体以及设于该座台内之一高导电性网状层与一低导电性网状层。该环体具有一凸起部，而该高导电性网状层大致设于该低导电网状层上方，且其尺寸系与配置于该座台上之基材尺寸相若。该低导电性网状层系呈轮状并绕设于该高导电性网状层之外周圆以及低于该环体之凸起部。