曝光装置,曝光方法,元件制造方法以及测量方法与测量装置

摘要

利用雷射光学特性测量装置(16c、16e)，接收雷射共振器(16a)所产生的雷射光束LB并且测量雷射光束之光学特性，再输出与光学特性相关的资讯。接着，以主控制装置(50)，在进行曝光时，依据前述资讯，控制提供给基板上的雷射光束之乘积能量(基板的曝光量)。藉此，依据雷射光束之特性，来调整基板的曝光量。即使雷射光束的光学特性产生变动，也不会受到影响，可以将形成于光罩上的图案精确且优异地转移到基板上。