发明名称 ガスを処理する方法およびその方法を実施するための装置
摘要 A method and device for processing a gas by forming microwave plasmas of the gas. The gas that is to be processed is set in a two or three co-axial vortex flow inside the device and exposed to a microwave field to form the plasma in the inner co-axial vortex flow, which subsequently is expelled as a plasma afterglow through an outlet of the device.
申请公布号 JP5944487(B2) 申请公布日期 2016.07.05
申请号 JP20140506980 申请日期 2012.04.27
申请人 ガスプラス エーエスGASPLAS AS 发明人 リズビー, フィリップ ジョン;ペニントン, デール
分类号 B01J19/08;H05H1/24 主分类号 B01J19/08
代理机构 代理人
主权项
地址