发明名称 A LITHOGRAPHY APPARATUS AND SYSTEM A METHOD OF CALIBRATING A LITHOGRAPHY APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHODS
摘要 본 명세서는 리소그래피 또는 노광 장치 및 시스템, 리소그래피 또는 노광 장치를 캘리브레이션하는 방법, 및 장치 제조 방법을 개시한다. 일 실시예에서, 제 1 노광 장치 및 제 2 노광 장치를 포함하는 노광 시스템이 제공되고, 여기서 제 1 장치 및 제 2 장치의 각각의 데이터 처리 장치는 응답 함수를 이용하여 제어 신호를 계산하도록 구성되며; 제 1 장치 및 제 2 장치의 각각의 프로그램가능한 패터닝 디바이스 및 투영 시스템의 조합 성능은, 적어도 제조 오차로 인해 서로 상이하고; 그리고 제 1 장치에 사용된 응답 함수는 상기 제 2 장치에 사용된 응답 함수와 동일하다.
申请公布号 KR101675044(B1) 申请公布日期 2016.11.22
申请号 KR20147025002 申请日期 2013.01.24
申请人 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 发明人 틴네만스, 파트리시우스
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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