| 发明名称 | 具有耐等离子体腐蚀性的保护层的衬底支架 | ||
| 摘要 | 本发明的实施方式提供了一种具有增强耐等离子体腐蚀性的保护层的衬底支撑组件。在一个实施方式中，一种衬底支撑组件包括具有上衬底支撑表面的静电卡盘、和设置在静电卡盘上的保护层，其中保护层由包含稀土金属的陶瓷材料制成。 | ||
| 申请公布号 | CN101118865A | 申请公布日期 | 2008.02.06 |
| 申请号 | CN200710143809.X | 申请日期 | 2007.08.01 |
| 申请人 | 应用材料股份有限公司 | 发明人 | 珍妮弗·Y·孙;周爱琳 |
| 分类号 | H01L21/683(2006.01);C23C16/458(2006.01);C23C14/50(2006.01);C30B25/12(2006.01) | 主分类号 | H01L21/683(2006.01) |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐金国;梁挥 |
| 主权项 | 1.一种衬底支撑组件，包括：具有上衬底支撑表面的静电卡盘；设置在所述静电卡盘上的保护层，其中所述保护层包括包含稀土金属的陶瓷材料。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||