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发明名称
偏光薄膜之制造方法,偏光板之制造方法及光学层合物之制造方法
摘要
本发明之课题系提供一种色不均匀少之偏光薄膜之制造方法,偏光板之制造方法及光学层合物之制造方法。本发明之解决手段系,将聚乙烯醇系薄膜,以膨胀处理,染色处理,硼酸处理之顺序在浴中连续地处理,且该等处理步骤中以至少一步骤进行一轴延伸来获得偏光薄膜之偏光薄膜制造方法中,在膨胀处理后染色处理之前设置至少1步骤之湿式延伸步骤,在该延伸步骤中使前述薄膜相对于水100重量份,含有硼酸0.01~2.0重量份之水溶液中以1.1倍以上不足3倍之延伸放大倍数进行一轴延伸。
申请公布号
TW200513690
申请公布日期
2005.04.16
申请号
TW093127660
申请日期
2004.09.13
申请人
住友化学工业股份有限公司
发明人
网谷圭二;藤本清二;松元浩二;山根尚德
分类号
G02B5/30
主分类号
G02B5/30
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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