发明名称 |
可延长处理腔室组件,使用期限和处理腔室效能的沈积环和覆盖环 |
摘要 |
本发明揭示一种可延长处理腔室组件使用期限和处理腔室效能的沈积环和盖环。含有一突出表面的沈积环相对于含有一凹入表面的盖环分隔设置。一涂层覆盖住该沈积环和该盖环的指定表面,以改善沈积材料的附着力。 |
申请公布号 |
TW200925327 |
申请公布日期 |
2009.06.16 |
申请号 |
TW097132287 |
申请日期 |
2008.08.22 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
罗林柏瑞德华纶;路比大卫P;丹尼尔约翰蒙若;碇约翰吉尔博 |
分类号 |
C25B9/00(2006.01) |
主分类号 |
C25B9/00(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财;李世章 |
主权项 |
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地址 |
美国 |