光罩及图样形成方法

摘要

【课题】即使在周期性的图样以外的部分，正确地形成图样。【解决手段】在曝光中，组合并使用：第1光罩，包括真图样，对应于在被加工膜上实际形成的图样，及假图样，被附加以使得光罩内的图样间距位于预定的范围内；与第2光罩，具有一图样，以区分真图样被形成之区域与假图样被形成之区域。在形成图样时，在基板上形成被加工膜之后，在被加工膜上，透过使用第1光罩的微影，形成第1罩幕，在前述被加工膜上，透过使用第2光罩的微影，形成第2罩幕。其后，以第1、第2罩幕作为罩幕，蚀刻被加工膜，以形成图样。