发明名称 TREATMENT METHOD TO MINIMIZE CORROSION OF LATERAL DIRECTION SPACER ON CONTACT REGION, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 JPH09181181(A) 申请公布日期 1997.07.11
申请号 JP19960343725 申请日期 1996.12.24
申请人 SAIPURESU SEMICONDUCTOR CORP 发明人 JIEEMUSU II NARUTEI;KURISUTOFUA JIEI PETEI
分类号 H01L21/28;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/336;H01L21/60;H01L21/768;H01L21/8234;H01L23/522;H01L29/78;(IPC1-7):H01L21/768;H01L21/306 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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