| 发明名称 | 基板处理装置的水平调节装置及利用其的水平调节方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种基板处理装置的水平调节装置及利用其的水平调节方法。本发明的基板处理装置的水平调节装置是具备在腔室的下方且对与安装基板的晶座连接的支撑板的水平进行调节的装置，所述基板处理装置的水平调节装置的特征在于具备：第一调节单元，其使所述支撑板上下移动特定距离；及第二调节单元，其防止所述支撑板因所述腔室内部的负压而向上方移动。本发明的水平调节装置及利用其的水平调节方法可非常准确且简便地调节支撑板的水平。 | ||
| 申请公布号 | CN105990192A | 申请公布日期 | 2016.10.05 |
| 申请号 | CN201610146209.8 | 申请日期 | 2016.03.15 |
| 申请人 | TES股份有限公司 | 发明人 | 尹炳浩;张琼镐;盧熙成;崔落句;全商熙 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 张洋;臧建明 |
| 主权项 | 一种基板处理装置的水平调节装置，其是具备在腔室的下方且对与安装基板的晶座连接的支撑板的水平进行调节的装置，所述基板处理装置的水平调节装置的特征在于具备：第一调节单元，其使所述支撑板上下移动特定距离；及第二调节单元，其防止所述支撑板因所述腔室的内部的负压而向上方移动。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道龙仁市处仁区阳智面中部大路2374-36 | ||