发明名称 半导体基板上之薄膜及残留物之量测方法与设备
摘要 本发明提供一种基板上之材料特性之感测方法。此方法包括沿着在可具有一薄膜之一基板之一表面上面所定义之一路径扫描。此基板系在出现时被设计成用以旋转。此方法包括于沿着此路径之复数个点来感测薄膜之特性,并藉由使用来自沿着此路径之复数个点之资讯来产生薄膜之一测绘图。本发明亦提供一种用以感测一基板上之材料特性之设备。
申请公布号 TW200534376 申请公布日期 2005.10.16
申请号 TW094109615 申请日期 2005.03.28
申请人 兰姆研究公司 发明人 叶海 高金斯
分类号 H01L21/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人 许峻荣
主权项
地址 美国