发明名称 化妆品研磨装置
摘要 本实用新型公开了一种化妆品研磨装置,其包括筒体等,缓冲座位于底座上,缓冲弹簧组位于缓冲座内,支撑座一端固定于缓冲弹簧组上,支撑座另一端固定于筒体的底端上,保护台安装于筒体顶端上,研磨腔位于筒体内,旋转轴和研磨片都位于研磨腔中,研磨片都固定于旋转轴上,阀门位于输送管内且位于筒体一侧,输送管的一端与研磨腔连通,过滤器位于输送管的另一端,过滤网安装于过滤器下侧,容器位于过滤器下方,原料入口、研磨介质入口都位于保护台上且与研磨腔连通。本实用新型既操作简单,研磨充分,又能够节约成本,同时安全可靠。
申请公布号 CN205435886U 申请公布日期 2016.08.10
申请号 CN201620118292.3 申请日期 2016.02.12
申请人 创庭化妆品科技(上海)有限公司 发明人 江俊达
分类号 B02C17/16(2006.01)I;B02C23/16(2006.01)I 主分类号 B02C17/16(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种化妆品研磨装置,其特征在于,其包括筒体、底座、缓冲座、缓冲弹簧组、支撑座、保护台、研磨腔、旋转轴、研磨片、阀门、输送管、过滤器、过滤网、容器、原料入口、研磨介质入口,缓冲座位于底座上,缓冲弹簧组位于缓冲座内,支撑座一端固定于缓冲弹簧组上,支撑座另一端固定于筒体的底端上,保护台安装于筒体顶端上,研磨腔位于筒体内,旋转轴和研磨片都位于研磨腔中,研磨片都固定于旋转轴上,阀门位于输送管内且位于筒体一侧,输送管的一端与研磨腔连通,过滤器位于输送管的另一端,过滤网安装于过滤器下侧,容器位于过滤器下方,原料入口、研磨介质入口都位于保护台上且与研磨腔连通。
地址 201612 上海市松江区新桥镇新镇街499弄镇南B区62号