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发明名称
用于光罩电浆蚀刻之方法及设备
摘要
在此提供一种用于光罩蚀刻的方法及设备。在一实施例中,一种蚀刻一光罩的方法包括提供一处理室,其具有一基材支撑座用来接收一光罩基材于其上;一离子–自由基(ion–radical)屏蔽件被提供在该座上方;一基材被放置在该座上位在该离子–自由基屏蔽件底下;一处理气体被引入到该处理室内且由从该处理气体中形成一电浆,该基材主要系以穿过该屏蔽件的自由基来蚀刻。
申请公布号
TW200601429
申请公布日期
2006.01.01
申请号
TW094110929
申请日期
2005.04.06
申请人
应用材料股份有限公司
发明人
库默亚杰;仙卓须德麦哈维;安德森史考特亚伦;沙特潘威夏彼得;邱伟帆
分类号
H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
美国
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