发明名称 |
一种银氧化铜电接触材料的制备方法 |
摘要 |
一种银氧化铜电接触材料的制备方法,原料成分、粒度及所占重量百分比:基料:银粉、氧化铜粉,粉末粒度为1.5μm-50μm,氧化铜粉占总重量的2%-25%,余量为银;添加物:氧化铋不超过总重量的0.9%,氧化镍不超过总重量的1%;原料经表面处理,经表面处理后的原料经配料后在混粉机中进行混合均匀,经等静压后形成等静压锭坯,等静压锭坯在加热炉中进行烧结,成为烧结锭坯,烧结锭坯送挤压机挤出板材或线材。制备的银氧化铜电接触材料能满足高性能低压电器的使用要求,特别适用于直流接触器。 |
申请公布号 |
CN101053903A |
申请公布日期 |
2007.10.17 |
申请号 |
CN200710068786.0 |
申请日期 |
2007.05.23 |
申请人 |
福达合金材料股份有限公司 |
发明人 |
柏小平;林万焕;张明江;刘立强;颜小芳;母仕华 |
分类号 |
B22F3/16(2006.01);B22F3/20(2006.01) |
主分类号 |
B22F3/16(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
1、一种银氧化铜电接触材料的制备方法,其特征在于:1)工艺流程:原料经表面处理,经表面处理后的原料经配料后在混粉机中进行混合均匀,经等静压后形成等静压锭坯,等静压锭坯在加热炉中进行烧结,成为烧结锭坯,烧结锭坯送挤压机挤出板材或线材;2)原料成分、粒度及所占重量百分比:基料:银粉、氧化铜粉,粉末粒度为1.5μm-50μm,氧化铜粉占总重量的2%-25%,余量为银;添加物:①氧化铋不超过总重量的0.9%,②氧化镍不超过总重量的1%;3)原料配方:基料或基料+添加物①或基料+添加物②或基料+添加物①②;4)技术条件:①原料表面处理温度:50℃-400℃,时间:1小时-20小时;②混粉时间:0.5小时-15小时;③等静压成型压力:50MPa-300MPa;④锭坯烧结温度:500℃-930℃,时间:2小时-8小时;⑤烧结锭坯挤压温度:600℃-900℃。 |
地址 |
325604浙江省乐清市柳市镇屏山路36号 |