发明名称 APPARATUS AND METHOD TO CONTROL VACUUM AT POROUS MATERIAL USING MULTIPLE POROUS MATERIALS
摘要 액침 액체 한정 장치는 액침 리소그래피 시스템에서 투영계와 노광의 물체 사이에 갭을 포함하는 액침 영역 내에 액침 액체를 한정한다. 이 장치는 또한 액침 영역으로부터 액침 액체를 회수한다. 이 장치는, 한정 부재 및 제 1 및 제 2 액체 투과성 부재를 포함한다. 한정 부재는, 물체 상에 패터닝된 이미지가 투영되는 개구 및 유출구를 포함한다. 제 1 액체 투과성 부재는 유출구를 커버하고, 물체에 면해 있는 제 1 면 및 제 1 면에 대향하는 제 2 면을 가지며, 제 2 면은 제 1 챔버에 접촉한다. 제 2 액체 투과성 부재는 대향하여 면해 있는 제 1 면 및 제 2 면을 가지며, 제 2 액체 투과성 부재의 제 1 면은 제 1 챔버에 접촉하고, 제 2 액체 투과성 부재의 제 2 면은 제 1 챔버와는 상이한 제 2 챔버에 접촉한다.
申请公布号 KR101647859(B1) 申请公布日期 2016.08.11
申请号 KR20117011440 申请日期 2009.10.21
申请人 가부시키가이샤 니콘 发明人 푼 알렉스;코 레오나드;쿤 데릭
分类号 G03B27/52;G03B27/60 主分类号 G03B27/52
代理机构 代理人
主权项
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