发明名称 Photoresist compositions.
摘要 Positiv arbeitende Photoresist-Zusammensetzungen enthaltend mindestens eine Verbindung der Formel I <IMAGE>worin X -C nH 2n-, -O-, -S- oder -C(O)- bedeutet, wobei n eine Zahl von 1 bis 6 ist. Diese sind besonders geeignet als positiv arbeitende Kopierlacke.
申请公布号 EP0265375(A1) 申请公布日期 1988.04.27
申请号 EP19870810556 申请日期 1987.09.25
申请人 CIBA-GEIGY AG 发明人 BAUER, SIGRID, DR.
分类号 G03C1/00;G03C1/72;G03F7/022;(IPC1-7):G03F7/08 主分类号 G03C1/00
代理机构 代理人
主权项
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