摘要 |
Positiv arbeitende Photoresist-Zusammensetzungen enthaltend mindestens eine Verbindung der Formel I <IMAGE>worin X -C nH 2n-, -O-, -S- oder -C(O)- bedeutet, wobei n eine Zahl von 1 bis 6 ist. Diese sind besonders geeignet als positiv arbeitende Kopierlacke.
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