| 发明名称 | 悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板 | ||
| 摘要 | 本实施方式涉及的研磨液，含有磨粒、添加剂和水，所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物，且，所述磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液，在以1.59×105G的离心加速度离心分离50分钟时，所形成的液相中的不挥发成分的含量在500ppm以上的液相的物质。 | ||
| 申请公布号 | CN103222036B | 申请公布日期 | 2016.11.09 |
| 申请号 | CN201180055798.4 | 申请日期 | 2011.11.21 |
| 申请人 | 日立化成株式会社 | 发明人 | 岩野友洋 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01)I;B24B37/00(2012.01)I;C09K3/14(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/304(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人 | 徐申民;杜娟 |
| 主权项 | 一种悬浮液，含有磨粒和水，其中，所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物，且，所述磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液，在以1.59×10<sup>5</sup>G的离心加速度离心分离50分钟时，所形成的液相中的不挥发成分的含量在500ppm以上的液相的物质。 | ||
| 地址 | 日本国东京都千代田区丸之内一丁目9番2号 | ||