一种GST中性化学机械抛光液

摘要

本发明涉及化学机械抛光液领域，尤其涉及一种可有效应用于相变材料GST的化学机械抛光。本发明提供一种GST中性化学机械抛光液，以重量百分比计，包括如下组分：二氧化硅抛光颗粒0.2‑30wt%；氧化剂0.01‑5wt%；表面活性剂0.01‑4wt%；余量为pH值调节剂和去离子水；所述GST中性化学机械抛光液的pH值为6‑8。本发明提供的用于相变材料GST的中性化学机械抛光液，所述的经过烷基改性，金属氧化物包裹，胺型改性，无机离子改性等方法改性的SiO2抛光颗粒，在pH值6‑8范围内，zeta电位的绝对值30‑80mv，胶体达到了稳定，从而形成稳定的中性化学机械抛光液。

主权项

一种GST中性化学机械抛光液，以重量百分比计，包括如下组分：金属氧化物包裹的二氧化硅抛光颗粒 2‑6wt％；氧化剂 1‑4wt％；表面活性剂 0.05‑2wt％；余量为pH值调节剂和去离子水；所述GST中性化学机械抛光液的pH值为6‑8；所述二氧化硅抛光颗粒在pH值6‑8时其zeta电位绝对值在30‑80mv范围，所述的氧化剂选自铁氰化钾、双氧水和过硫酸铵，所述的表面活性剂选自聚丙烯酸钠。