发明名称 |
液体シランおよびヘテロ原子添加物を処理により形成されるシリコン材料 |
摘要 |
金属、非金属、およびそれらの組み合わせを組み込んだシリコン薄膜および構造を形成する方法、そのような方法に有用な液体前駆体組成物、およびヘテロ原子が埋め込まれたシリコン薄膜および構造が開示される。組成物は、通常は室温において液状であり、液体シランを含み、金属添加物および/または非金属添加物を有する。金属源および非金属源は、有機金属化合物および有機化合物をそれぞれ含む。また、組成物は、溶媒を含有していてもよい。ヘテロ原子が埋め込まれたシリコン膜または構造を形成するために、組成物を基板上にプリント加工、コーティング加工、またはスプレー加工してもよく、また、UV、熱、IR、および/またはレーザー処理を施してもよい。 |
申请公布号 |
JP2016519640(A) |
申请公布日期 |
2016.07.07 |
申请号 |
JP20160503222 |
申请日期 |
2014.03.14 |
申请人 |
エヌディーエスユー リサーチ ファウンデーション |
发明人 |
フィリップ プドチョク;グルヴェンケト スリニヴァサン;シュイリアン ダイ;ジャスティン ホエイ;ケネス アンダーソン;マシュー フレーリッヒ |
分类号 |
C01B33/04;C01B33/027;C07F7/22;C07F7/24;C07F9/94;C09D11/00 |
主分类号 |
C01B33/04 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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