| 发明名称 | 浸入式光刻中的衬底布置 | ||
| 摘要 | 一种用于确定衬底的中心与夹盘中的凹腔的中心之间的偏移的方法，包括：为凹腔提供测试衬底，其中该测试衬底的尺寸小于凹腔的尺寸；在测试衬底处于凹腔中时测量测试衬底的对准标记的位置；以及从对准标记的位置中确定衬底中心与凹腔中心之间的偏移。 | ||
| 申请公布号 | CN1786833A | 申请公布日期 | 2006.06.14 |
| 申请号 | CN200510137044.X | 申请日期 | 2005.12.09 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | C·A·胡根达姆;G·J·尼梅杰;M·库佩鲁斯;P·A·W·C·M·范埃克 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 蔡民军 |
| 主权项 | 1.一种用于确定衬底的中心与夹盘中的凹腔的中心之间的偏移的方法，包括：为凹腔提供测试衬底，所述测试衬底的尺寸小于所述凹腔的尺寸；在所述测试衬底处于所述凹腔中时测量所述测试衬底的对准标记的位置；和从所述对准标记的位置中确定所述衬底中心与所述凹腔中心之间的偏移。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||