| 发明名称 |
Ion-beam deposition process for manufacturing multilayered attenuated phase shift photomask blanks |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2002307450(A1) |
申请公布日期 |
2002.11.05 |
| 申请号 |
AU20020307450 |
申请日期 |
2002.04.19 |
| 申请人 |
E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY |
发明人 |
PETER FRANCIS CARCIA;LAURENT DIEU |
| 分类号 |
C23C14/06;C23C14/46;G03F1/00;H01L21/027;(IPC1-7):G03F1/00;G03F1/08;C23C14/00 |
主分类号 |
C23C14/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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