发明名称 FILM DEPOSITION APPARATUS
摘要 진공 용기 내에서 기판에 박막을 성막하기 위한 성막 장치는 회전 테이블과, 제1 처리 가스를 공급하는 제1 처리 가스 공급부와, 제2 처리 가스를 공급하는 가스 노즐과, 상기 가스 노즐을 덮도록 설치된 노즐 커버와, 분리 가스 공급부를 구비하고, 상기 노즐 커버는 천장 벽부와, 이 천장 벽부에 있어서의 상기 회전 테이블의 회전 방향 상류측 및 하류측의 각각의 테두리부로부터 하방측을 향해 연신되는 상류 측벽부 및 하류 측벽부를 구비하고, 상기 상류 측벽부에 있어서의 상기 가스 노즐측의 내면은 경사진 경사면으로서 형성되고, 상기 상류 측벽부에 있어서의 상기 가스 노즐측의 내면이 상기 회전 테이블의 표면과의 이루는 각도 θ1이, 상기 하류 측벽부에 있어서의 상기 가스 노즐측의 내면이 상기 회전 테이블의 표면과의 이루는 각도 θ2보다도 작아지도록 구성된다.
申请公布号 KR101658277(B1) 申请公布日期 2016.09.22
申请号 KR20140011672 申请日期 2014.01.29
申请人 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 发明人 오시모 겐타로;고아쿠츠 마사토;사사키 히로코;사토 가오루;이케가와 히로아키
分类号 H01L21/687;C23C16/34;C23C16/44;C23C16/455 主分类号 H01L21/687
代理机构 代理人
主权项
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