首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
摘要
申请公布号 EP1644426(B1) 申请公布日期 2009.06.17
申请号 EP20040747823 申请日期 2004.07.15
申请人 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 发明人 MASUDA, YASUO;OKUI, TOSHIKI
分类号 C08G8/00;C08G8/10;C08G14/00;C08L61/06;G03F7/023;H01L21/027 主分类号 C08G8/00
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com