| 发明名称 |
FILM FORMING METHOD BY ECR PLASMA CVD |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH0586479(A) |
申请公布日期 |
1993.04.06 |
| 申请号 |
JP19910250848 |
申请日期 |
1991.09.30 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD;FUJITSU VLSI LTD |
发明人 |
NAKAHIRA JUNYA;TOKI MASAHIKO;OKUDA SHOJI |
| 分类号 |
C23C16/44;C23C16/50;C23C16/511;H01L21/205;H01L21/31 |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
