SEMICONDUCTOR SUBSTRATE TREATMENT LIQUID, TREATMENT METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE PRODUCT USING THESE

摘要

저마늄(Ge)을 포함하는 Ge 함유층을 갖는 반도체 기판으로부터 상기 반도체 기판 상측의 유기물을 제거하거나, 혹은 그 표면을 세정하는 처리액으로서, 처리액을 pH5~16의 범위로 하는 약액 성분과, Ge 함유층을 방식하기 위한 방식 성분을 포함하는 반도체 기판의 처리액이다.