发明名称 曝光装置和象差校正方法
摘要 一种曝光装置,具有检测气压的气压计、驱动投影光学系统的透镜的透镜驱动单元、改变曝光光源的波长的光源波长驱动单元、和可以在光轴方向上驱动晶片台的晶片台驱动单元,可以通过透镜驱动单元、光源波长驱动单元和晶片台驱动单元校正由于气压变动产生的象差。这里,在该曝光装置的拍摄曝光中用透镜驱动单元和/或晶片台驱动单元校正象差,在非曝光时(拍摄之间)用光源波长驱动单元和/或透镜驱动单元和晶片台驱动单元校正象差。
申请公布号 CN1530753A 申请公布日期 2004.09.22
申请号 CN200410028478.1 申请日期 2004.03.12
申请人 佳能株式会社 发明人 冈田芳幸
分类号 G03F7/20;G03F7/00;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 李德山
主权项 1.一种曝光装置,其特征在于:它备有测量投影光学系统的附近或内部的气压的气压测量部件、包含通过驱动上述投影光学系统的透镜从而调整象差在内,根据上述气压测量部件所测量的气压而反复校正象差的第1校正部件、和包含通过变更曝光光源的波长从而调整象差在内,根据上述气压测量部件所测量的气压,以比由上述第1校正部件反复校正象差的时间间隔长的时间间隔校正象差的第2校正部件。
地址 日本东京