| 摘要 |
本发明与一种用于对大基板进行雷射退火的装置有关，该装置包括一光学装置，用于在该基板(32)的一照射平面(36)上产生一狭窄照射线(31)，该照射线(31)系从一雷射光束产生且具有一截面，该截面具有在一第一方向中之一扩展以及在一第二方向中之一扩展，且在该第一方向中的该扩展超过该第二方向中的该扩展一倍数。该装置也包括一扫瞄装置，其系建构以在该第二方向中以该照射线扫瞄该基板该照射平面的一第一区段。根据本发明，该装置包括一旋转装置，用以在扫瞄该第一区段(37)之后，沿着与该照射平面(36)正交的一旋转轴(38)，将该基板(32)相对该照射线(31)进行旋转180度，该扫瞄装置系建构以在该第二方向中以该照射线(31)扫瞄该基板(32)该照射平面(36)的一第二区段，其中该第二区段与该基板(32)该照射平面(36)的该第一区段(37)相邻。 |
