被成膜基板、制造方法和有机EL显示装置

摘要

本发明的被成膜基板（200）中，第一膜（23R）的膜厚渐减部分（23sR）的y轴方向上的基端侧形成为与第一成膜区域（24R）重叠，第二膜（23B）的膜厚渐减部分（23sB）形成为位于第二成膜区域（24B）的y轴方向上的外侧，并且与第一膜（23R）的膜厚渐减部分（23sR）重叠而填补膜厚渐减部分（23sR）的膜厚逐渐减少的量。

主权项

一种被成膜基板，其特征在于，包括：第一成膜区域和第二成膜区域沿着规定方向彼此隔开间隔地交替配置的基板；和分别在所述基板的所述第一成膜区域和所述第二成膜区域覆盖形成的第一膜和第二膜，所述第一膜在所述规定方向上的两侧部分分别具有膜厚向所述规定方向上的前端侧逐渐减少的膜厚渐减部分，所述第二膜在所述规定方向上的两侧部分分别具有膜厚向所述规定方向上的前端侧逐渐减少的膜厚渐减部分，该膜厚渐减部分与所述第一膜的所述膜厚渐减部分重叠，所述第二膜的除所述膜厚渐减部分以外的平坦部分的膜厚大于所述第一膜的除所述膜厚渐减部分以外的平坦部分的膜厚，在所述第一膜的所述平坦部分上和所述第二膜的所述膜厚渐减部分上还包括第三膜。