| 发明名称 | 偏极化高分子电激发光元件制作方法 | ||
| 摘要 | 一种偏极化高分子电激发光元件制作方法，其主要步骤是将高分子发光层制作于承载的柔性基板上，再加热与拉伸高分子发光层材料的薄膜与柔性基板，再将高分子发光层材料转印于已制作电洞传输层的透明导电层基板上，并蒸镀阴极层与封装，借由上述的拉伸动作，使高分子发光层材料的高分子的主链排列具有方向性，而得到已偏极化的电激发光光源。 | ||
| 申请公布号 | CN1538788A | 申请公布日期 | 2004.10.20 |
| 申请号 | CN03121872.5 | 申请日期 | 2003.04.15 |
| 申请人 | 胜园科技股份有限公司 | 发明人 | 张书文 |
| 分类号 | H05B33/10 | 主分类号 | H05B33/10 |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 余刚 |
| 主权项 | 1.一种偏极化高分子电激发光元件制作方法，其主要步骤包括：a)将高分子发光层(73)材料制作于承载的柔性基板(76)上；b)加热及拉伸高分子发光层(73)材料与柔性基板(76)；c)转印高分子发光层(73)材料于已制作电洞传输层(72)与透明导电层(71)的透明基板(70)上；d)可转印一电子传输层(74)；e)蒸镀阴极层(75)与封装；f)元件测试；其特征在于，借由上述步骤b的拉伸动作，将高分子发光层(73)材料经过拉伸，造成高分子发光层(73)材料的高分子具有方向性的排列，再经转贴制程转印具有方向性排列的高分子发光层(73)材料于电洞传输层(72)上。 | ||
| 地址 | 台湾省台中市 | ||