发明名称 枢轴定位构件
摘要 本创作系揭露一种枢轴定位构件,此结构适用于枢轴及承架之枢纽装置上。枢轴定位构件中包含有凹定位块、凸定位块、弹性元件及固定件。其中,凹定位块套设在枢轴上,但固定于承架上不随枢轴旋转,凸定位块则套设在枢轴上随枢轴旋转。凹定位块与凸定位块具有相对是之第一凹槽、第一凸块,及第二凹槽、第二凸块,且凹定位块亦具有供第二凸块移动之导轨。弹性元件提供凹定位块与凸定位块间之裕度,固定件则固定于枢轴上。藉由本创作凹定位块及凸定位块之设计,达成对枢轴具有定位及限位功效。
申请公布号 TWM331278 申请公布日期 2008.04.21
申请号 TW096217011 申请日期 2007.10.11
申请人 晟铭电子科技股份有限公司 发明人 张仰之
分类号 H05K7/16(2006.01) 主分类号 H05K7/16(2006.01)
代理机构 代理人 王信祝 台北县中和市中正路880号4楼之3;杨长峰 台北县中和市中正路880号4楼之3
主权项 1.一种枢轴定位构件,适用于一枢轴及一承架之一 枢纽装置上,此枢轴定位构件至少包含: 一凹定位块,具有一第一表面、一第二表面及贯穿 该第一表面及该第二表面之一第一孔洞,该第一孔 洞系套设在该枢轴上,使该枢轴可自由旋转于该第 一孔洞中,该第一表面设有一固定部系固定于该承 架上,该第二表面邻近侧缘之一外环系设有一第一 凹槽,该第二表面邻近该第一孔洞之一内环系局部 凹陷形成一导轨,该导轨之一末端设有一第二凹槽 ; 一凸定位块,具有一第三表面、一第四表面及贯穿 该第三表面及该第四表面之一第二孔洞,该第二孔 洞系符合该枢轴之外形系套设在该枢轴上,与该枢 轴同步旋转,该第三表面相对应该第二表面之该第 一凹槽系设有一第一凸块,且相对于该第二凹槽系 设有一第二凸块,使该第一凸块及该第二凸块系各 自卡入该第一凹槽及该第二凹槽中; 一弹性元件,套设于该枢轴上,系提供该凹定位块 与该凸定位块间之裕度;以及 一固定件,套设且固定于该枢轴上。 2.如申请专利范围第1项所述之枢轴定位构件,其中 该承架系套设于该枢轴上。 3.如申请专利范围第1项所述之枢轴定位构件,其中 该凹定位块之该导轨之另一末端相邻未凹陷的部 份形成一挡止部,以限制该凸定位块之该第二凸块 移动于该导轨中。 4.如申请专利范围第1项所述之枢轴定位构件,其中 该弹性元件与该固定件之间系设有一辅架,该辅架 亦套设于该枢轴上且固定于该承架上。 5.如申请专利范围第1项所述之枢轴定位构件,其中 该枢轴之一端系设有一托架。 6.如申请专利范围第1项所述之枢轴定位构件,其中 该弹性元件系具有至少一弹片及至少一垫片。 图式简单说明: 第一图 系显示本创作之枢轴定位构件之枢纽装置 实施例组合图; 第二图 系显示本创作之枢轴定位构件之第一视角 分解图; 第三图 系显示本创作之枢轴定位构件之第二视角 分解图; 第四图 系显示凹定位块之立体及正视图; 第五图 系显示凸定位块之正视图; 第六图 系显示凹定位块与凸定位块之一定位实施 图;以及 第七图 系显示凹定位块与凸定位块之另一定位实 施图。
地址 台北市内湖区民权东路6段27号2楼