发明名称 垂直構造を有する窒化ガリウムパワー半導体素子
摘要 半導体素子は、第1の面及び第2の面を有する基板と、基板の第1の面の上に配設される第1の活性層とを含む。第2の活性層は、第1の活性層上に配設される。第2の活性層は、2次元電子ガス層が第1の活性層と第2の活性層との間に生じるように、第1の活性層よりも高いバンドギャップを有する。少なくとも1つのトレンチは、第1及び第2の活性層並びに2次元電子ガス層を通り、基板へと延在する。導電材料はトレンチを裏張りする。第1の電極は第2の活性層上に配設され、第2の電極は基板の第2の面上に配設される。【選択図】図2
申请公布号 JP2016526802(A) 申请公布日期 2016.09.05
申请号 JP20160525352 申请日期 2014.06.18
申请人 ヴィシャイ ジェネラル セミコンダクター エルエルシーVishay General Semiconductor LLC 发明人 チェン,マックス エスケー;リン,イー−イン
分类号 H01L29/872;H01L21/28;H01L21/329;H01L21/337;H01L21/338;H01L29/12;H01L29/41;H01L29/47;H01L29/778;H01L29/78;H01L29/808;H01L29/812 主分类号 H01L29/872
代理机构 代理人
主权项
地址