| 发明名称 |
SPUTTERING TARGET MATERIAL AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2166160(B) |
申请公布日期 |
1988.05.11 |
| 申请号 |
GB19850021604 |
申请日期 |
1985.08.30 |
| 申请人 |
* MITSUBISHI KINZOKU KABUSHIKI KAISHA |
发明人 |
KENICHI * HIJIKATA;TADASHI * SUGIHARA;MASASHI * KOMABAYASHI |
| 分类号 |
C04B35/58;C22B34/34;C23C14/34;(IPC1-7):C22C29/18;B22F3/26 |
主分类号 |
C04B35/58 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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