发明名称 |
电容屏及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种电容屏及其制备方法,通过在透明基板上设置表面为金属导电层的ITO层,对金属导电层及ITO层进行化学蚀刻形成电容屏的显示区域及其周边走线区域,并进一步对周边走线区域进行激光蚀刻,形成触控感应线路。通过上述方式,本发明可以有效降低电容屏触控感应线路所占的空间,提高产品的屏占比,从而使产品实现窄边框的外观效果,并且还有效提升了产品的制程良率及工艺稳定性。 |
申请公布号 |
CN106168867A |
申请公布日期 |
2016.11.30 |
申请号 |
CN201610578836.9 |
申请日期 |
2016.07.21 |
申请人 |
武汉华星光电技术有限公司 |
发明人 |
李波 |
分类号 |
G06F3/044(2006.01)I;G06F3/041(2006.01)I |
主分类号 |
G06F3/044(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 |
代理人 |
梁恺峥 |
主权项 |
一种电容屏的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:提供一透明基板;在所述透明基板上形成ITO层;在所述ITO层上形成金属导电层;对所述ITO层和所述金属导电层进行蚀刻,以形成显示区域和位于所述显示区域外的周边走线区域;对所述周边走线区域进行激光蚀刻,以形成触控感应线路。 |
地址 |
430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋 |