发明名称 二维光子晶体光复用器/解复用器
摘要 一种光复用器/解复用器,其可以具有较小的尺寸和更高的Q因数或效率。通过以下结构达到该目的。在平板形主体11中,具有低于主体11的材料的折射率的低折射率区12周期地排列,以构造二维光子晶体,其中通过不线性地打孔12形成波导13。通过不在位于波导13邻近的两个或多个格点处打孔,形成施主型簇缺陷14。利用该结构,只有在传播通过波导13的光中包括的特定光波长才在施主型簇缺陷14处共振,且这样俘获的光被释放到外部(解复用)。相反,只有特定的光波长可以通过施主型簇缺陷14被引入波导13中(复用)。
申请公布号 CN1643416A 申请公布日期 2005.07.20
申请号 CN03806872.9 申请日期 2003.03.26
申请人 独立行政法人科学技术振兴机构 发明人 野田进;望月理光;浅野卓
分类号 G02B6/12 主分类号 G02B6/12
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 朱进桂
主权项 1.一种二维光子晶体光复用器/解复用器,其特征在于包括:a)平板形主体;b)具有不同于主体的折射率的多个改进折射率区,其周期地排列在主体中;c)在构造了改进折射率区的缺陷的主体中线性地形成的波导;以及d)簇缺陷,位于波导附近且由两个或多个彼此相邻的缺陷构成。
地址 日本埼玉县